1. 本选题研究的目的及意义
氧化锌（ZnO）作为一种宽禁带直接带隙半导体材料，具有优异的光学、电学和压电等性能，在透明导电膜、气敏传感器、紫外探测器、太阳能电池等领域有着广泛的应用前景。
薄膜的微结构和光学性质与其应用密切相关，而二氧化硅（SiO₂）作为一种常用的介电材料，在光电子器件中应用广泛。
本课题旨在通过在氧化锌薄膜中引入二氧化硅夹层，研究其对氧化锌薄膜光学性质的影响，探索改善氧化锌薄膜光学性能的新途径，为其在光电子器件中的应用提供理论依据和技术支持。
2. 本选题国内外研究状况综述
氧化锌薄膜的光学性质与其制备方法、掺杂元素、退火处理等因素密切相关。
近年来，国内外学者在利用二氧化硅等介电材料改善氧化锌薄膜光学性质方面开展了大量的研究工作。
1. 国内研究现状
3. 本选题研究的主要内容及写作提纲
本课题主要内容包括：1.制备不同二氧化硅夹层厚度的氧化锌/二氧化硅复合薄膜。
2.对氧化锌/二氧化硅复合薄膜进行结构表征和光学性质测试。
3.分析二氧化硅夹层厚度对氧化锌薄膜光学性质的影响规律。
4. 研究的方法与步骤
本研究将采用磁控溅射法制备不同二氧化硅夹层厚度的氧化锌/二氧化硅复合薄膜，利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、荧光光谱仪(PL)等手段对薄膜样品进行结构表征和光学性质测试，分析二氧化硅夹层厚度对氧化锌薄膜结晶取向、晶粒尺寸、表面形貌、透光率、光学带隙、荧光光谱等的影响规律，并结合相关理论探讨二氧化硅夹层调控氧化锌薄膜光学性质的机理。
具体步骤如下：1.制备不同二氧化硅夹层厚度的氧化锌/二氧化硅复合薄膜。
a.采用磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备二氧化硅薄膜，通过控制溅射时间来改变二氧化硅薄膜的厚度。
5. 研究的创新点
本研究的创新点在于：1.系统研究了二氧化硅夹层厚度对氧化锌薄膜光学性质的影响规律，揭示了二氧化硅夹层对氧化锌薄膜光学性质的调控机制。
2.探索了一种简单、有效、可控的氧化锌薄膜光学性质调控方法，为制备高性能的氧化锌基光电子器件提供了一种新的思路。
3.为其他宽禁带半导体材料的光学性质调控提供了借鉴和参考。
6. 计划与进度安排
第一阶段 （2024.12~2024.1）确认选题，了解毕业论文的相关步骤。
第二阶段（2024.1~2024.2）查询阅读相关文献，列出提纲
第三阶段（2024.2~2024.3）查询资料，学习相关论文
7. 参考文献（20个中文5个英文）
[1] 王波,张倩,田永君.氧化锌薄膜气敏特性研究进展[J].材料导报,2018,32(12):2017-2023.
[2] 李红,张琳,李艳,等.氧化锌薄膜的制备方法及其应用研究进展[J].功能材料,2019,50(04):4053-4060.
[3] 张晓东,王世敏,王文杰,等.氧化锌薄膜光学性质研究进展[J].材料导报,2017,31(S1):290-296.
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