1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）
文献综述1.引言氮化硅陶瓷由于具有一系列优异的力学性能、热学性能和化学稳定性，在能源环保、机械化工、航天航空及切削加工等现代科技和工业领域受到了越来越多的关注[14]。
其抗弯强度和断裂韧性分别能达到1000MPa和7MPa m1/2以上，且自身硬度高，具有良好的耐磨损性能；氮化硅的导热性好，热导率高，且具有良好的抗热震性；同时化学稳定性高，抗腐蚀性能良好。
自Swann和Sterling 报导[1]氮化硅薄膜适于硅集成电路钝化以来, 氮化硅薄膜不仅在光电领域的应用日益广泛, 而且在材料表面改性领域也有着广阔的应用前景。
剩余内容已隐藏，您需要先支付后才能查看该篇文章全部内容！
2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
本课题主要研究内容：(1)高纯硅粉在氮气中进行煅烧的合适温度区间及最佳反应时间；(2)在硅粉煅烧过程中，形成陶瓷膜的最佳温度；(3)氮化硅陶瓷膜的性能参数测定；(4)对实验装置进行小试、中试，从实验室到工业化需要考虑的技术因素和非技术因素；拟采用的研究手段：（1）拟设计经过3h、4h、5h保温时间形成的氮化硅做对比实验；（2）利用可控的加热仪器，进行不同温度段的煅烧实验；（3）利用扫描电镜观测粉体的表面和截面形貌；（4）对不同温度和时间下形成的氮化硅陶瓷膜膜进行测试，获取陶瓷膜膜性能参数，使用灰色分析法对参数的关联性进行评测，排列出参数相关度，对相关度较高的参数进行实验分析，得出陶瓷膜最优性能参数。
剩余内容已隐藏，您需要先支付 10元 才能查看该篇文章全部内容！立即支付
以上是毕业论文开题报告，课题毕业论文、任务书、外文翻译、程序设计、图纸设计等资料可联系客服协助查找。
